회사소식

㈜알파에이디티의 극자외선(EUV) 반사 다층박막 관련 연구 성과가 2026년 11월 3일, 국제광공학회(SPIE)에서 발행하는 국제학술지 Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology에 게재되었습니다.

이번 국제학술지 논문 게재는 알파에이디티의 지속적인 연구개발 활동과 기술적 성과를 대외적으로 알리는 의미 있는 계기가 되었습니다.

㈜알파에이디티는 앞으로도 지속적인 기술 개발과 연구 협력을 통해 반도체 및 첨단 광학 박막 분야의 기술 경쟁력을 강화해 나가겠습니다.

 

 

■ 논문 정보

• 논문명: Effect of thermal annealing on EUV reflectivity of Mo/Si multilayers with Si₃N₄ interlayers
• 학술지: Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology
• 발행기관: SPIE
• 게재일: 2026년 11월 3일
• 논문 링크: https://doi.org/10.1117/1.JMM.25.4.044602